掩模对准曝光机是什么？如何操作？

岱美仪器技术服务2023-07-26

掩模对准曝光机是半导体制造过程中的重要设备，用于将光刻胶覆盖在硅片上，并通过光源进行曝光，形成微细图案。掩模对准是确保曝光位置准确的关键步骤。下面是掩模对准曝光机的一般操作步骤： 1. 掩模加载：将掩模（也称为掩膜或掩模板）放置在对准曝光机的掩模台上，并确保掩模与台面平行。 2. 样品加载：将待曝光的硅片放置在对准曝光机的样品台上，并进行调整，使其与掩模平行。 3. 对准标记选择：在掩模和样品上选择对准标记，这些标记通常是用于对准的特殊图案或结构。 4. 对准模式选择：根据对准标记的类型和位置，选择适当的对准模式。 5. 对准操作：根据选择的对准模式，在对准曝光机上进行对准操作。这可能涉及移动掩模、样品或对准台，以使对准标记位置对齐。 6. 曝光参数设置：根据所需的曝光条件，设置曝光时间、光源强度等参数。 7. 曝光操作：开始曝光过程，光源照射掩模上的图案，通过掩模的光学系统将图案投射到样品上。 8. 检查曝光结果：曝光完成后，进行曝光结果的检查和评估，确保图案的准确性和质量。我们岱美以过硬的产品质量、完善的售后服务、认真严格的企业管理，赢得了广大客户的认可，欢迎广大客户前来咨询！